R&D 서비스
기술명 | [NT] 고결정성 산화물 박막 기술 | |
---|---|---|
기술 개요 | 한 방향으로 결정화된 산화물 희생층 위에 결정 구조와 결정 격자 간 거리, 이온 반경이 유사한 산화물 박막을 상온에서 증착한 후 열처리하여 고결정 산화물 박막을 제조하는 기술 | |
기존 기술의 문제점 | ∙ 기존 열, 온도 감응형 반도체 소자는 대부분 벌크형 소자를 활용함으로써 생산단가, 수율 등에 한계가 있고, 고성능 온도 감응형 소자로 구현하기 어려움. | |
기술 특징 및 대표도 |
- 기존 열, 온도 감응형 반도체
소자는 대부분 벌크형 소자를
활용하는 반면 본 기술은 박막 소자 구현을 위한 기술로 생산단가, 수율, 균일성 측면에서
큰 장점을 가짐.
- 단순히 버퍼
층으로 높은 결정질 산화물
박막을 만드는 것이 아니고,
결정
희생층을 버퍼
층으로 도입하여 높은 결정성을 만들 뿐 아니라 주산화물층박막에 원하는 특성을 나타낼 수 있는 특정 금속 이온을 도핑할 수 있음. |
|
효과 | - 고결정성 고성능 산화물 박막 기술은 기존 벌크형 반도체 소자를 대체, 열 감지·제어, 전자소자 보호회로 등에 사용 | |
권리 현황및 기술 수준 |
출원번호 기술분류 기술수준 패밀리특허 10-2022-0075738 NT 4단계 (실험실 규모의 소재/부품/시스템 핵심성능 평가) - |
연구책임자 정보 | |
---|---|
성명 | 소속 |
강종윤 | 첨단소재기술연구본부 |
기술이전 담당자 | ||
---|---|---|
성명 | 연락처 | 이메일 |
변지형 | 02-958-6328 | jhbyun@kist.re.kr |